| A63.7069 Funzione principale del software | ||
| Regolazione alta pressione | Scansione della linea verticale | Potenziale regolazione del turno |
| Regolazione corrente del filamento | Regolazione del condensatore | Misura multiscala |
| Regolazione astigmatica | Da elettrico a regolazione centrale | Luminosità/contrasto automatici |
| Regolazione della luminosità | Regolazione della lente dell'obiettivo | Messa a fuoco automatica |
| Regolazione del contrasto | Anteprima foto | Eliminazione automatica dell'astigmatismo |
| Regolazione dell'ingrandimento | Righello attivo | Regolazione automatica del filamento |
| Modalità di scansione dell'area selezionata | 4 Impostazione della velocità di scansione | Gestione dei parametri |
| Modalità di scansione del punto | Inversione della lente dell'obiettivo | Istantanea dell'immagine, congelamento dell'immagine |
| Scansione di superficie | Inversione del condensatore | Visualizzazione rapida a una chiave |
| Scansione linea orizzontale | Regolazione elettrica della rotazione | |
| SEM | A63.7069 | A63.7080 | A63.7081 |
| Risoluzione | 3 nm @ 30 KV (SE) 6 nm @ 30 KV (BSE) |
1,5 nm @ 30 KV (SE) 3nm @ 30KV (BSE) |
1,0 nm @ 30 KV (SE) 3,0 nm @ 1 KV (SE) 2,5 nm @ 30 KV (BSE) |
| Ingrandimento | 8x~300000x Vero Ingrandimento Negativo | 8x~800000x Vero Ingrandimento Negativo | 6x~1000000x Vero Ingrandimento Negativo |
| Pistola elettronica | Cartuccia di filamento di tungsteno precentrata | Pistola a emissione di campo Schottky | Pistola a emissione di campo Schottky |
| Voltaggio | Tensione di accelerazione 0 ~ 30 KV, regolabile in continuo, regolare il passo 100 V @ 0-10 Kv, 1 KV @ 10-30 KV | ||
| Occhiata veloce | Funzione immagine rapida a un tasto | N / A | N / A |
| Sistema di lenti | Lente conica elettromagnetica a tre livelli | Lente conica elettromagnetica multilivello | |
| Apertura | 3 aperture dell'obiettivo in molibdeno, regolabili all'esterno del sistema di aspirazione, non è necessario smontare l'obiettivo per cambiare l'apertura | ||
| Sistema sottovuoto | 1 Turbo Pompa Molecolare 1 pompa meccanica Vuoto della stanza dei campioni>2.6E-3Pa Vuoto camera pistola elettronica>2.6E-3Pa Controllo del vuoto completamente automatico Funzione di blocco del vuoto Modello opzionale: A63.7069-LV 1 Turbo Pompa Molecolare 2Pompe meccaniche Vuoto della stanza dei campioni>2.6E-3Pa Vuoto camera pistola elettronica>2.6E-3Pa Controllo del vuoto completamente automatico Funzione di blocco del vuoto Basso vuotoIntervallo 10~270Pa Per commutazione rapida in 90 secondi Per BSE(LV) |
1 set pompa ionica 1 Turbo Pompa Molecolare 1 pompa meccanica Vuoto della stanza dei campioni>6E-4Pa Vuoto camera pistola elettronica>2E-7 Pa Controllo del vuoto completamente automatico Funzione di blocco del vuoto |
1 Pompa ionica Sputter 1 pompa per composti ionici getter 1 Turbo Pompa Molecolare 1 pompa meccanica Vuoto della stanza dei campioni>6E-4Pa Vuoto camera pistola elettronica>2E-7 Pa Controllo del vuoto completamente automatico Funzione di blocco del vuoto |
| Rivelatore | SE: Rivelatore di elettroni secondari ad alto vuoto (con protezione del rivelatore) | SE: Rivelatore di elettroni secondari ad alto vuoto (con protezione del rivelatore) | SE: Rivelatore di elettroni secondari ad alto vuoto (con protezione del rivelatore) |
| BSE: Segmentazione a semiconduttore 4 Rilevatore di dispersione posteriore Modello opzionale: A63.7069-LV BSE(LV): Segmentazione a semiconduttore 4 Rilevatore di dispersione posteriore |
Opzionale | Opzionale | |
| CCD:Telecamera CCD a infrarossi | CCD:Telecamera CCD a infrarossi | CCD:Telecamera CCD a infrarossi | |
| Estendi porta | 2 Estendi le porte sulla stanza dei campioni per EDS, BSD, WDS ecc. |
4 Estendi le porte sulla stanza dei campioni per BSE, EDS, BSD, WDS ecc. |
4 Estendi le porte sulla stanza dei campioni per BSE, EDS, BSD, WDS ecc. |
| Stadio del campione | Fase 5 assi, 4Auto+1ManualeControllo Gamma di viaggio: X=70mm, Y=50mm, Z=45mm, R=360°, T=-5°~+90° (Manuale) Toccare la funzione di avviso e arresto |
5 assiAuto MezzoPalcoscenico Gamma di viaggio: X=80mm, Y=50mm, Z=30mm, R=360°, T=-5°~+70° Toccare la funzione di avviso e arresto Modello opzionale: A63.7080-M5 assiManualePalcoscenico A63.7080-L5 assiAuto Di grandi dimensioniPalcoscenico |
5 assiAuto Di grandi dimensioniPalcoscenico Gamma di viaggio: X=150 mm, Y=150 mm, Z=60 mm, R=360°, T=-5°~+70° Toccare la funzione di avviso e arresto |
| Campione massimo | Dia.175mm, Altezza 35mm | Dia.175mm, Altezza 20mm | Dia.340mm, Altezza 50mm |
| Sistema di immagini | Immagini fisse reali Risoluzione massima 4096x4096 pixel, Formato file immagine: BMP (predefinito), GIF, JPG, PNG, TIF |
Immagini fisse reali Risoluzione massima 16384x16384 pixel, Formato file immagine: TIF (predefinito), BMP, GIF, JPG, PNG Video: registrazione automatica di video .AVI digitali |
Immagini fisse reali Risoluzione massima 16384x16384 pixel, Formato file immagine: TIF (predefinito), BMP, GIF, JPG, PNG Video: registrazione automatica di video .AVI digitali |
| Software per il computer | PC Work Station Win 10 System, con software di analisi delle immagini professionale per controllare completamente il funzionamento del microscopio SEM, specifiche del computer non meno di Inter I5 3,2 GHz, memoria 4G, monitor LCD IPS da 24", disco rigido da 500 G, mouse, tastiera | ||
| Esposizione di foto | Il livello dell'immagine è ricco e meticoloso e mostra ingrandimento in tempo reale, righello, voltaggio, curva dei grigi | ||
| Dimensione & Il peso |
Corpo del microscopio 800x800x1850mm Tavolo da lavoro 1340x850x740mm Peso totale 400Kg |
Corpo del microscopio 800x800x1480mm Tavolo da lavoro 1340x850x740mm Peso totale 450Kg |
Corpo del microscopio 1000x1000x1730mm Tavolo da lavoro 1330x850x740mm Peso totale 550Kg |
| accessori opzionali | |||
| accessori opzionali | A50.7002Spettrometro a raggi X a dispersione di energia EDS A50.7011Verniciatore a polverizzazione ionica |
A50.7001Rivelatore di elettroni a dispersione posteriore BSE A50.7002Spettrometro a raggi X a dispersione di energia EDS A50.7011Verniciatore a polverizzazione ionica A50.7030Motorizzare il pannello di controllo |
A50.7001Rivelatore di elettroni a dispersione posteriore BSE A50.7002Spettrometro a raggi X a dispersione di energia EDS A50.7011Verniciatore a polverizzazione ionica A50.7030Motorizzare il pannello di controllo |
| A50.7001 | Rilevatore di BSE | Rivelatore di dispersione posteriore a quattro segmenti a semiconduttore; Disponibile negli ingredienti A+B, Morfologia Info AB; Campione disponibile Osservare senza sputtering oro; Disponibile in Osserva l'impurità e la distribuzione direttamente dalla mappa in scala di grigi. |
| A50.7002 | EDS (rilevatore di raggi X) | Finestra al nitruro di silicio (Si3N4) per ottimizzare la trasmissione di raggi X a bassa energia per l'analisi degli elementi leggeri; L'eccellente risoluzione e la loro elettronica avanzata a basso rumore forniscono prestazioni di throughput eccezionali; L'ingombro ridotto offre flessibilità per garantire la geometria ideale e le condizioni di raccolta Aata; I rivelatori contengono un chip da 30 mm2. |
| A50.7003 | EBSD (Diffrazione retrodiffusa del fascio di elettroni) | l'utente potrebbe analizzare l'orientamento del cristallo, la fase cristallina e la microstruttura dei materiali e le relative prestazioni dei materiali, ecc. ottimizzazione automatica delle impostazioni della telecamera EBSD durante la raccolta dei dati, eseguire analisi interattive in tempo reale per ottenere il massimo delle informazioni tutti i dati sono stati marchiati con time tag, che possono essere visualizzati in qualsiasi momento alta risoluzione 1392 x 1040 x 12 Scansione e velocità dell'indice: 198 punti / sec, con Ni come standard, nella condizione di 2~5nA, può garantire un tasso di indice ≥99%; funziona bene in condizioni di corrente a fascio basso e bassa tensione di 5 kV a 100 pA precisione di misurazione dell'orientamento: migliore di 0,1 gradi Utilizzo del sistema di indicizzazione triplex: non c'è bisogno di fare affidamento sulla definizione di banda singola, facile indicizzazione di scarsa qualità del modello database dedicato: database speciale EBSD ottenuto per diffrazione elettronica: struttura a fasi >400 Capacità di indicizzazione: può indicizzare automaticamente tutti i materiali cristallini di 7 sistemi cristallini. Le opzioni avanzate includono il calcolo della rigidità elastica (rigidità elastica), il fattore Taylor (Taylor), il fattore Schmidt (Schmid) e così via. |
| A50.7010 | Macchina di rivestimento | Guscio di protezione in vetro: ∮250 mm;340 mm di altezza; Camera di lavorazione del vetro: ∮88mm;140 mm di altezza, ∮88 mm;57 mm di altezza; Dimensioni della fase del campione: ∮40 mm (max); Sistema a vuoto: pompa molecolare e pompa meccanica; Rilevazione del vuoto: Pirani Gage; Vuoto: meglio di 2 X 10-3 Pa; Protezione dal vuoto: 20 Pa con valvola di gonfiaggio su microscala; Movimento del campione: rotazione del piano, precessione dell'inclinazione. |
| A50.7011 | Verniciatore a polverizzazione ionica | Camera di lavorazione del vetro: ∮100mm;130 mm di altezza; Dimensioni della fase del campione: ∮40 mm (contiene 6 tazze per campioni); Dimensioni target dorate: ∮58 mm * 0,12 mm (spessore); Rilevazione del vuoto: Pirani Gage; Protezione dal vuoto: 20 Pa con valvola di gonfiaggio su microscala; Gas Medio: Argon O Aria Con Aria Speciale Gas Argon E Regolazione Del Gas In Microscala. |
| A50.7012 | Rivestitore a polverizzazione di ioni di argon | Il campione è stato placcato con carbonio e oro sotto alto vuoto; Tavolo campione girevole, rivestimento uniforme, dimensione delle particelle circa 3-5 nm; Nessuna selezione di materiale bersaglio, nessun danno ai campioni; Le funzioni di pulizia ionica e assottigliamento ionico possono essere realizzate. |
| A50.7013 | Essiccatore a punti critici | Diametro interno: 82 mm, lunghezza interna: 82 mm; Intervallo di pressione: 0-2000 psi; Intervallo di temperatura: 0°-50° C (32°-122° F) |
| A50.7014 | Litografia a fascio di elettroni | Basato sul microscopio elettronico a scansione, è stato sviluppato un nuovo sistema di nano-esposizione; La modifica ha mantenuto tutte le funzioni Sem per la creazione di immagini a larghezza di linea in nanoscala; Il sistema Ebl modificato ampiamente applicato a dispositivi microelettronici, dispositivi optoelettronici, dispositivi quantistici, ricerca e sviluppo di sistemi microelettronici. |
| A63.7069 Completo di materiali di consumo standard | |||
| 1 | Filamento di tungsteno | Precentrato, importato | 1 scatola (5 pezzi) |
| 2 | Coppa campione | Diam.13mm | 5 pezzi |
| 3 | Coppa campione | Diam.32mm | 5 pezzi |
| 4 | Nastro conduttivo biadesivo in carbonio | 6 mm | 1 pacchetto |
| 5 | Grasso sottovuoto | 10 pezzi | |
| 6 | Panno glabro | 1 tubo | |
| 7 | Pasta Lucidante | 1 pc | |
| 8 | Campione | 2 borse | |
| 9 | Batuffolo di cotone | 1 pc | |
| 10 | Filtro nebbia d'olio | 1 pc | |
| A63.7069 Attrezzatura standard per strumenti e parti | |||
| 1 | Chiave esagonale interna | 1,5 mm ~ 10 mm | 1 set |
| 2 | Pinzette | Lunghezza 100-120 mm | 1 pc |
| 3 | Cacciavite a taglio | 2*50 mm, 2*125 mm | 2 pezzi |
| 4 | Cacciavite a croce | 2*125 mm | 1 pc |
| 5 | Dispositivo di rimozione del diaframma | 1 pc | |
| 6 | Asta di pulizia | 1 pc | |
| 7 | Strumento di regolazione del filamento | 1 pc | |
| 8 | Guarnizione di regolazione del filamento | 3 pezzi | |
| 9 | Estrattore di tubi | 1 pc | |
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